2022-10-19 
- 磁控濺射原理及主要用途——蘇州磁控濺射廠傢 - 其他 - 蘇州磁控濺射廠傢 - 114.239.254.*
磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氩原子發生碰撞，使其電離産生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下變化飛向陰極靶，並以髙能量轟擊靶錶麵，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而産生的二次電子會受到電場和磁場作用，産生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌迹近似於一條擺線。若爲環形磁場，則電子 ...(/)