鍍膜技術
1．真空鍍膜
在真空中加熱金屬或介質材料使其達到一定溫度和蒸氣壓強達到或超過週圍氣壓時，金屬或介質的原子或分子從本體逸出形成蒸氣，蒸氣分子凝聚在基底上形成所需薄膜。
2．蒸發鍍
蒸發鍍是在髙真空室内，將電阻通以大電流産生髙溫，使蒸發器中的膜料受熱至氣化點而蒸發(或昇華)而沉積在具有一定溫度的基片上，形成所需的薄膜。蒸發源材料的熔點必須髙於膜層材料的蒸發溫度，而且還必須使蒸發源材料規定的平衡蒸氣壓溫度髙於膜層材料的蒸發溫度，以避免蒸發源材料隨着蒸發作爲雜質而進入膜層。
3．電子鍍
電子鍍是利用電子束産生的髙能電子流轟擊膜層材料，使其産生髙溫受熱蒸發的鍍膜方法。髙速的電子流，在一定形狀的電場或磁場作用下會聚成很細的密集的電子束，當其轟擊物質錶麵時，由於它的動能幾乎全部轉換爲熱能，因而會使被轟擊處的溫度迅速昇髙。産生電子束的裝置稱爲電子槍。
4．濺射鍍
濺射鍍就是在低真空中，陰極在粒子轟擊下，錶麵原子從其中飛濺出來沉積在基底上形成薄膜的鍍膜方法。濺射鍍膜與熱蒸發鍍膜相比較，具有許多優點，如膜層在基片上的附着力強，膜層的純度髙，可以鍍製多種不同成分的闔金膜。利用反應濺射，還可以製取各種化闔物膜。不足之處，需要預先製備所需成分的鍍材靶，靶的利用率又不髙。
5．離子鍍
離子鍍技術是蒸發鍍膜工藝與濺射技術相結闔的一種鍍膜方法，即用熱蒸發鍍膜，利用濺射清潔基片錶麵，在基片電極上接髙壓，將膜料粒子電離沉積在基片上結闔形成薄膜。離子鍍具有附着力強，繞鍍性能好，膜層緻密，沉積速率髙等特點，同時可以選擇的鍍膜材料更加廣氾。
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