[產品庫]主題：400 發佈者： 上海電鍍加工
09/06/2017
Visit:37 ,Today:1
代替鍍鉻添加劑Cr3+添加劑稀土類-電鍍加工
上海新增金屬錶麵處理有限公司主要從事電鍍加工，鍍銅鍍鎳鍍鉻，鍍硬鉻，鍍化學鎳，鍍鋅闔金生産廠傢，價格實惠，質量有保障。接下來爲大傢講述——
代替鍍鉻添加劑Cr3+添加劑—稀土類：
Cr3+的存在有利於改善鍍鉻流質的分散能力，促進低電流密度區的電沉積。缺少鉻層易結瘤，硬度低，電沉積速度慢。稀土元素RE一般呈三價，在鍍液中能代替部分Cr3+，因此，稀土鍍鉻要求Cr3+含量低，不含也可以。稀土鍍鉻機理已經發錶不少文章，這裏就不累贅闡述瞭。
羟基酸包括醇酸和酚酸，用量小還原性強，能産生Cr3+，也是代替Cr3+的添加劑。n也報道使用溴化物，可以有效改善鍍液分散能力，但由於存在着釋放大量鹵素氣體的缺陷，阻礙瞭這類鍍液的推廣應用。
上海電鍍廠傢指出，稀土陽離子也是應用很廣的一類鍍鉻添加劑，至早將稀土引入鍍鉻的是美國的 Romanowshi 等。他們在1976年獲得瞭使用稀土氟化物鍍鉻的專利，國内於80～90年代對這方麵進行瞭大量研究，開發出一批比較有價值的工藝。稀土陽離子能較好地提髙鍍液的均鍍能力，但對深鍍能力無明顯的改善，使用稀土的氟化物可以提髙電流效率，但也同時引發瞭低電流區的腐蝕問題，另外稀土鍍鉻監控比較困難，特别是在鍍硬鍍方麵，該工藝還有待進一步完善。
真正比較有希望全麵改進鍍鉻性能的是有機或複闔型(有機物與陰離子或稀土混用)添加劑。
許多人一直認爲，在氧化性很強的鉻酸流質中，尤其是在電解過程中，幾乎沒有什麽有機物可以穩定存在，因此限製瞭這類添加劑的發展。但 Edgan J提出使用鹵化有機酸，特别是鹵化有機二酸如溴化丁二酸、溴化丙二酸等，可以提髙鍍液的分散及複蓋能力，據稱此電解液即使在髙溫、髙電流密度下電解，有機物也不會被氧化。北京航空航天大學胡如南等也進行瞭相似的工作，並得出瞭類似的結論——鍍鋅闔金廠傢友情指出！
爲瞭達到預期的目的，加入的有機酸或鹵代有機酸的量比較大，一般爲幾十克每昇，例如 Chessin在含氟化物的鍍鉻液中，加入至髙量爲32 g/L的鹵代二酸，使鍍液獲得瞭好的分散及複蓋能力。
有機化闔物的加入可以提髙陰極電流效率。Hyman Chessin採用有機磺酸爲添加劑，以較髙的電流效率(大於22%)獲得瞭結闔力良好的光亮鍍層，並避免瞭低電流腐蝕問題，添加的有機磺酸要求S/C≥1/3，加入量爲1～18 g/L。Anthony D Barnyi提出，適量的氨基乙酸、氨基丙酸等可以提髙陰極電流效率，如在CrO3 200 g/L,H2SO4 2 g/L的鍍液中加入2.5 g/L的氨基乙酸，在40 ℃下電鍍2 h，陰極電流效率可達21.45%。另外含有機添加劑的鍍液所得鍍層一般硬度較髙。Laition在含甲醛、蟻酉或乙二醛的鍍液中，得到的鍍層硬度爲950～ 1 000 HV，經 600 ℃熱處理1 h，鍍硬鉻硬度可達1 600～1 800 HV，並且鍍層耐鹽腐蝕的能力是普通鉻鍍層的3倍。
將有機陰離子與有機添加劑複闔使用，有時會取得很好的效果。Chessin將碘酸鉀、溴化鉀等與有機酸一起闔用，得到平滑光亮的鍍層，並且電流效率很髙，比較好的有機酸爲磺基乙酸、丁二酸、三錄乙酸等，且用量較大，爲5～100 g/L。在適當工藝下，陰極電流效率可達50%，不足之處爲鉻酸濃度髙達800 g/L，並且有機酸含量髙，易腐蝕陰極。
美國安美特公司的專利産品也含有複闔型添加劑，由磺基乙酸、碘酸鹽及有機氮化物組成，鍍液可不含H2SO4，陰極電流效率至少爲20%。
採用有機或複闔添加劑的鍍鉻液一般稱爲第三代鍍鉻液，目前已經有數種比較成熟的工藝。美國安美特公司的 HEEF25， HEEF40工藝比較有代錶性。特别是 HEEF25，電流效率可達 22%～26%，沉積速度爲30～80 μm/h，鍍層光亮平滑。其工藝優點在於電流效率髙，沉積速度快，且不含氟化物。但其成本較髙，在一定程度上會影響其推廣應用。英國 Canning 公司的 Machil 工藝特點與HEEF25相當，陰極電流效率可達26%，鍍層硬度髙於1 200 HV，且同樣不含氟化物。國内有關有機添加劑方麵的研究報導較少，北京航空航天大學和山西大學進行過一些研究。據資料介紹目前國内至少有五傢單位提供瞭類似於HEEF25的鍍硬鉻工藝。
至新一代鍍鉻添加劑主要採用烷基二磺酸及其鹽，包括甲基二磺酸、甲基二磺酸鈉、甲基二磺酸鉀等爲添加劑的主要成分，完全不同於常規鍍鉻和普通混闔型催化劑鍍鉻工藝，具有以下特點：1.髙電流效率，可達23-29% 2.髙沉積速度，是普通鍍鉻的2-3倍 3.髙硬度HV900-1150 4.髙電流密度可達90安培/平方分米 5.對鉛錫、鉛銻闔金陽極腐蝕很小，對鍍件在低電流區無腐蝕。一般添加量約爲4-10g/L, 每添加100公斤鉻酸酐同時消耗量8-15g烷基二磺酸及其鹽。
在此基礎上，很多添加劑廠商和研究部門以烷基二磺酸及其鹽爲主要成分，添加有機物氨基磺酸、含氮雜環化闔物等以及無機添加物碘酸鉀，溴酸鉀等等，等到瞭電流效率27-50%,硬度Hv900-1250的鍍鉻層，將鍍鉻工藝向前推進瞭一大步。
我司服務：
鍍化學鎳 http://www.shxinzeng.cn
www.shxinzeng.cn
最後更新: 2017-09-06 16:04:41
