光刻機性能指標及分類—上海庫存芯片回收

光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光係統，光刻係統等，是製造芯片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，（庫存IC芯片回收）把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。

光刻機性能指標——庫存芯片回收公司小編來爲大傢娓娓道來：

1.

光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸範圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生産效率等。

2.

分辨率是對光刻工藝加工可以達到的至細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限製,所以與光源、光刻係統、光刻膠和工藝等各方麵的限製。

3.

對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。

4.

曝光方式分爲接觸接近式、投影式和直寫式。

5.

曝光光源波長分爲紫外、深紫外和極紫外區域，光源有銾燈，準分子激光器等。

光刻機分類：

A 手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita觮度來完成對準，對準精度可想而知不髙瞭；

B 半自動：指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧；

C 自動：指的是從基闆的上載分享，曝光時長和循環都是通過程序控製，自動光刻機主要是滿足工廠對於處理量的需要。

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